多くの光学プロジェクトは、ベース自体の平坦度精度が不十分であるためではなく、防振サポートの不適切な選択、レイアウト、レベリング操作が原因で、光路のドリフトと再現性の低下に悩まされています。花崗岩の光学ベースは優れた材料安定性を誇りますが、防振サポートはリファレンス システム全体の機械的緩衝インターフェイスとして機能します。サポートのレイアウトが不適切であったり、レベリングが粗かったりすると、ねじれ応力や局所的な支点の過負荷が生じ、ベースの本来の平坦度の精度が直接損なわれ、ナノ-レベルの光学的キャリブレーションが無効になる可能性があります。 UNPARALLELED グループは、半導体およびレーザー光学プロジェクトの提供における豊富な経験を活かし、応力解放、振動絶縁性能、および長期的な精度安定性のバランスをとった実用的な仕様を開発しました。-実践的な重要なポイントを以下に詳しく説明します。
1. 設置前の支点計画: 3 つの主要なサポート、優しいサポートのみの補助サポート
多くのエンジニアは、サポートが多いほど安定性が向上すると考え、4 つ以上のサポートを均等に配置する傾向があります。これは、精密光学ベースのレベリングにおいてよくある誤解です。硬くて重い花崗岩のコンポーネントは、複数のサポートを同時に締め付けると内部ねじれ応力が発生しやすくなります。このようなストレスは周囲の温度と湿度の変化によって徐々に解放され、テーブルの水平度が継続的にずれることになります。
実際のソリューションでは、3 つの主要な耐荷重防振支点を採用し、安定した機械的三角形を形成して、ベース モジュールと光学モジュールのほとんどの荷重に耐えます。{0}残りの補助防振サポートは安全バックストップとしてのみ機能します。設置後、補助支点は上向きのジャッキ予圧を加えずに底面に軽く触れるだけにしてください。防振サポートの配置はベースの重心と一致する必要があります。光学モジュールやレーザーなどの重量のあるコンポーネントは、偏心荷重による転倒モーメントを避けるために、3 つの主要なサポートで囲まれた三角形の領域内に配置する必要があります。大型の光学ベースを納品する場合、UNPARALLELED は不当な支点位置によって引き起こされる長期的な応力変形を防ぐための支点配置の参考図を提供します。-
防振サポートは作業条件に応じて選択する必要があります。減衰防振パッドは、通常の実験室環境に適しています。半導体のクリーンルームやフェムト秒レーザーの光路には、地面からの低周波微小振動をフィルタリングするための空気-浮動式防振サポートが推奨されます。-恒久的な固定や光学モジュールの頻繁な組み立てと分解が必要なシナリオでは、微調整ネジ付きの水平調整脚が推奨されます。{6}}設置前にサポートの接地面のゴミや突起物を取り除いてください。水平調整脚の一点停止を避けるために、地面の平坦度の悪さを改善するためにパッドを適用する必要があります。-
2.-設置前の準備: ストレスの軽減と環境浸漬。即時レベリングなし
ベースを吊り上げて位置決めした直後にレベリングを開始してはなりません。吊り上げや輸送により、花崗岩のベースに一時的な組み立て応力が加わり、ベースと現場環境の温度差も変形の原因となります。即時レベリングを行うと、調整後の測定値が常に変動します。
実際のワークフロー: ベースを防振サポート上に配置した後、石の温度を周囲温度と等しくして、吊り上げによって発生する一時的な応力を解放するために、十分な浸漬時間の間、外部の制約から解放された状態に保ちます。浸漬中は、局所的な温度勾配による微細な変形を防ぐため、空調の空気流がベースに直接当たらないようにしてください。-水平にする前に、すべての防振サポートが自由な状態にあり、ロック ナットが予トルクなしで完全に緩んでいることを確認してください。-複数の点で誘導マイクロメーターを使用してクロスチェックした、校正済みの高精度電子水準器が推奨されます。-通常の気泡水準器は、ナノ-グレードの光学式ステージレベリングには推奨されません。 UNPARALLELED が提供するすべての検査機器には校正証明書が付属しており、現場での測定データが追跡可能であることが保証されています。{10}
3. 段階的なレベリング動作: 粗調整→静荷重均熱→微調整、微調整、大きな変位なし
レベリングは 3 つの段階的に進行します。微調整を行うたびに十分な待ち時間が必要です。これにより、光学ステージのレベリングと通常の機械装置のコミッショニングが区別されます。
大まかな調整: 3 つの主要なサポートを調整して、全体のレベルの偏差を 0.1 mm/m 以内に制御します。補助サポートは荷重をかけずに軽く接触したままになります。大まかな調整後、放置して測定値を監視し、継続的なドリフトがないことを確認します。
負荷ソーキング: すべての光学モジュールとミラー フレームを取り付けて、実際の作業負荷をシミュレートします。空の負荷平準化データは読み込み後に失敗します。このステップは、オンサイトのコミッショニング中に無視されることがよくあります。-荷重後の微小変形が安定するまで、アセンブリを静止させてください。-
精密な微調整: 1 つのサポート フットを毎回少しずつ回転させます。 1つの支点を調整するとX、Y、斜め方向の測定値が変化するため、一度に片足を目標値に合わせるのではなく、何度もクロスチェックを行う必要があります。すべてのレベルの仕様を満たしたら、レベルの読み取り値を継続的に監視しながらサポート フィートのロック ナットを締めます。締め付けトルクが大きすぎるとベースが引っ張られ、仕上がりレベルの基準が台無しになります。
4. 振動の再チェックとトラブルシューティング: レベリングは認定された振動絶縁と同等ではありません
認定された水平レベリングは、テーブルトップの幾何学的水平度を保証するだけであり、サポートの満足のいく防振性能ではありません。地面からテーブルトップに伝わる振動振幅を評価するには、レベリング後に振動試験を実行する必要があります。
低周波振動には特別な注意を払う必要があります。- -作業場のエアコンプレッサー、空調ユニット、近くのコンベアからの低周波振動は、通常のゴムパッドではほとんどフィルタリングできず、低速の光路ジッターを引き起こします。振動センサーはテーブルトップに設置され、昼間の生産時と夜間の静かな時間帯にデータを記録します。共振が発生する場合は、防振サポートの剛性を調整するか、支点の位置をわずかにずらしてシステムの共振周波数を回避してください。サポートとベースの間の接触面を確認します。金属の破片や硬い粒子は局所的な硬いスポットを形成し、応力集中を引き起こし、長期的なベンチマークの安定性を低下させます。{6}}
5. 長期的なモニタリングとメンテナンスのヒント-
光学ステージはレベリング後も恒久的に校正された状態を維持しません。周囲温度の変化、地面の沈下、防振コンポーネントの経年劣化により、レベルの状態は徐々に変化します。テーブルトップの水平度と振動インジケーターの定期的な再チェックを確立するものとします。重い光モジュールを分解または交換するたびに、装填された浸漬と手順を再確認してください。
花崗岩のベースをバールや重いものでこじ開けないでください。強制的にこじ開けると、ベースに永続的な内部応力が生じ、平坦度精度が不可逆的に失われます。防振部品を交換する場合は、ベースの転倒を防ぐため、一度にすべてのサポートを取り外すのではなく、交互に支点を緩めてください。 UNPARALLELED は、プロジェクト引き継ぎ時にオンサイトでの設置とメンテナンスのガイダンスを提供し、お客様が長期的なベンチマークの安定性のためのメンテナンス プロトコルを構築できるように支援します。-